l超高书写精度

　　-5 nm线宽精度 125 kV

　　-1.7 nm电子束直径&邻近效应小化 125 kV

　　l大通量、均匀性好

　　-宽视野书写:500um视场下10 nm线宽

　　-高束流下电子束直径依然很小，大通量而不影响分辨率，2 nm电子束直径 1 nA

　　l界面用户友好

　　基于Windows系统的CAD和SEM界面:

　　-简单易用的图案设计功能

　　-易于控制的电子束条件

　　二、电子束曝光系统主要功能：

　　l主要应用

　　纳米器件的微结构

　　集成光学器件，如光栅，光子晶体等

　　NEMS结构，复杂精细结构

　　光刻掩模板，压印模板

　　l技术能力

　　三、应用：

http://www.natengyiqi.com/Products-36860820.html

https://www.chem17.com/st125795/product_36860820.html