真空镀膜是一种由物理方法造成塑料薄膜原材料的技术性，在真空泵房间内原材料的分子从加温源混凝土离析出去打进被镀物件的表层上。该项技术性用以生产制造光学激光镜片，如远洋航行望远镜镜片等；后拓宽到别的作用塑料薄膜，游戏设备镀铝膜、装饰设计镀膜和原材料表层改性材料等，纳米镀膜生产商，如腕表机壳镀仿金黄，机械设备数控刀片镀膜，更改生产加工红强制。真空镀膜有三种方式，即挥发镀膜、磁控溅射镀膜和等离子喷涂。真空镀膜的作用是各个方面的，这也决策了其运用场所比较丰富。整体而言，真空镀膜的关键作用包含授予被镀件表层高宽比金属质感和镜面玻璃实际效果，在塑料薄膜原材料上使膜层具备优异的隔绝特性，出示出色的磁屏蔽材料和导电性实际效果。
真空镀膜技术性被称作发展前景的关键技术性之一， 镀膜企业并已在高新技术产业发展的发展趋势中展示出的行业前景。
真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子東轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。
溅射镀膜基本原理：充(Ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(Ar)原子电离成氮离子(Ar)，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在10-2pa~10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。
