7分钟前 高淳平面曝光显影服务来电咨询「利成感光」[利成感光38dbdb8]内容：曝光时间的控制曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。曝光不足，抗蚀膜聚合不够，显影时胶膜溶胀、变软，线条不清晰，色泽暗淡，甚至脱胶；曝光过度，将产生显影困难，胶膜发脆，余胶等问题。相比于其他工艺技术，该套系统具有分辨率高，重复性好，图案化丰富等优点，针对于背接触太阳电池和异质结背接触太阳电池的指交叉图案，可得到优良的工艺效果。

底片尺寸的稳定性随环境的温度和贮存时间而变化。所以，底片的生产、贮存和使用采用恒温的环境，采用厚底片也能提高照相底片的尺寸稳定性。

除此以外，曝光机的真空系统和真空曝光框架材料的选择，也影响曝光成像的质量。

定位方法是：首先将正、便能得到同时钻出元件孔和定位孔的数据带或数据盘，一次性钻出元件孔及定位孔，在孔金属化后预镀铜，便可用双圆孔脱销定位曝光。

曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上。显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。曝光一般在曝光机内进行，目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。