派瑞林真空镀膜（CVD）技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要突破。随着制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。从PCBA电路板、LED、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜（CVD）设备、技术、材料需求都在不断增加，包括制造大规模集成电路的防护膜；数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜；充分展示和应用各种光学特性的光学膜；计算机显示用的感光膜；TFT、PDP平面显示器上的导电膜和增透膜；建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜；包装领域用防护膜、阻隔膜；装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜；工、模具表面上应用的耐磨超硬膜；纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等。
材料不相容性：聚对二涂层和待粘附的基材表面需要粘合在一起。聚对二与待覆盖表面之间的不相容性产生了聚对二和衬底相遇的表面能的不协调; 在这些情况下，只有小的粘合发生，如果它发展，经常导致分层。
涂层孔隙率：在聚对二涂层和表面之间的区域中产生蒸汽压差，导致易受水分侵入和渗透到PCB的影响。随之而来的温度和压力的波动产生渗透压，其可以将涂层与基底分离。
